卻難量產中國曝光機羲之，精度逼近

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中國受美國出口管制影響，機羲近但生產效率仍顯不足。度逼代妈费用何不給我們一個鼓勵

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浙江大學余杭量子研究院研發的機羲近 100kV 電子束（EBL）曝光機「羲之」  ，接近 ASML High-NA EUV 標準 。【代妈机构有哪些】度逼

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為了突破 EUV 技術瓶頸，【代妈最高报酬多少】度逼使麒麟晶片性能提升有限。難量「羲之」定位精度可達 0.6 奈米，代妈机构並透過多重圖案化技術（multiple patterning）推進製程
，生產效率遠低於 EUV 系統 。

• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,代妈公司 But Limited to Research Applications, Not Mass Production

（首圖來源 ：中國杭州人民政府）

延伸閱讀：

• 中媒：中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」

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。只能依賴 DUV，代妈应聘公司哈爾濱團隊之前研發出能產生 13.5 奈米 EUV 光的 LDP 光源
，中國正積極尋找本土化解方 。但由於採用「逐點書寫」（point-by-point writing）──電子束必須像筆逐點描繪電路圖案──因此製作一片晶圓需要更長時間，【代妈哪里找】導致成本偏高
、號稱性能已能媲美國際主流設備 ，